『OPIE ’25/レーザーEXPO』へ出展します。
2025/03/17
2025年4月23日（水）から4月25日（金）にかけて開催される 『OPIE ‘25』内の「レーザーEXPO 2025」へEulitha社が出展します。
Eulitha社(スイス)はフォトニクス製造向け高品質リソグラフィーソリューションを提供しています。
詳細は以下の通りです。
開催概要
| 会期 | 2025年4月23日（水）～4月25日（金） |
|---|---|
| 会場 | パシフィコ横浜 |
| ブースNO | 「レーザーEXPO 2025」 A-38 |
| 来場者登録はこちらから | https://www.opie.jp/visitors/register/ |
展示内容
Eulitha社(スイス)の露光装置 「PHABLE」シリーズ
Eulitha社の画期的なPHABLE露光テクノロジーは半導体レーザー(DFBやVCSEL)で使われるグレーチングパターンやAR/VRのウェーブガイド(導波路)などの低コスト且つ高品質な露光を可能にします。
- UV光源モデルは 125nmハーフピッチ（リニアグレーチング）
- DUV光源モデルは 65nmハーフピッチ（リニアグレーチング）
の解像度に対応しています。
PhableR
- R＆D及び少量生産向け露光装置
- マニュアルローディング、自動露光
- 標準モデルは～Φ6インチウェハサイズに対応（大口径ウェハサイズにも対応可能）
PhableX
- 量産対応機
- カセット対応、自動露光
- 標準モデルは～Φ8インチウェハサイズに対応（大口径ウェハサイズにも対応可能）
PhableS
- 量産対応機
- ステッパタイプ、自動ローディング、自動露光
- 標準モデルは～Φ１２インチウェハサイズに対応（大口径ウェハサイズにも対応可能）
是非、ご来場・お立ち寄りください。