『CLEO 2019』へ出展します。

2019/04/04

2019年5月7日(火)~ 9日(木)、アメリカ、サンノゼ、San Jose McEnery Convention Center にて開催されます『CLEO 2019』へ出展します。

詳細は以下の通りです。

開催概要

会期

2019年5月7日(火)、 8日(水)、 午前10時から午後5時
2019年2月7日(木)、 午前10時から午後3時

*現地時間

開催場所 San Jose McEnery Convention Center, San Jose, USA
ブースNO 2445

展示内容

弊社保有設備及びアライアンスパートナーを駆使した光学デバイスへの成膜加工、ナノ・マイクロレベルの微細パターニング加工、光MEMSの試作サービスを紹介します。

  • ガラス基板、ポリマーへの成膜加工

  • マイクロレンズアレイ(MLA)

  • ナノインプリントモールド各種

  • ナノインプリントによる受託サービス

  • 光導波路

  • 光MEMS上へのグレーティング形成

  • GaNナノワイヤ/ナノカラム/ナノピラー

是非当社ブースへお立ち寄りください。