『MNC 2015』へ出展します。

2015/10/06

2015年11月10日[火]〜13日[木]、富山国際会議場にて開催されます『MNC 2015』へ出展致します。

詳細は以下の通りです。

開催概要

開催日 2015/11/10(火)〜13(木)
開催場所 富山国際会議場

出展内容

ナノ/マイクロプロセスサービス
ご仕様に合わせて最適な材料/プロセスを選択し、MEMS・マイクロ流体の標準品やカスタム製作のご要望に少量から対応します。

  • 基板手配・・・シリコン、ガラス、樹脂など多様な材料に対応
  • 成膜・・・スパッタ(120種類以上)、蒸着、CVD、メッキ等対応
  • リソ/ナノインプリント・・・コンタクトアライナー、ステッパー、EB、ナノインプリント等
  • エッチング・・・ドライ(ICP,RIE)、ウェット、犠牲層エッチ等
  • CMP/接合・・・最適なCMP、接合方法や関連プロセスを提案
ナノ/マイクロプロセスサービス

位相シフトマスク露光システム 'PhabeR 100'
Eulitha社独自の露光システムによりシンプル且つリーズナブルコストでDUV相当の高解像度が得られる、コンタクトレスのプロキシミティ露光システムです。

  • 300nm以下の高解像度
  • 4インチ全面露光
  • ノンコンタクトの為、マスクをダメージやコンタミから保護
  • 非平面基板にも対応
  • 3%以下の高均一性
  • オーバーレイアライメント能力
  • 一般のフォトレジスト利用可能
  • 従来のクロムマスク利用可能
  • 周波数多重
位相シフトマスク露光システム 'PhabeR 100'

本学会においてEulitha社よりPhableR100に関する発表が御座います。

是非弊社ブースへお立ち寄り下さい。