ターゲット在庫表

  • ご支給ターゲットでの成膜も可能です。
  • ターゲット販売も致します。
  • O2、N2等を使用したリアクティブ成膜も可能です。
    例:Cu2O、TaN、TiN、VO2、V2O5、WN 等
  • 中型機: Φ4“ ターゲット Φ4“基板を4枚/バッチ処理可能(目安)
  • 大型機: Φ8" ターゲット Φ12“基板を4枚/バッチ処理可能(目安)
METALS 装置名
中型機 大型機
41CP/42CP/43TMP 81CP/82CP/83TMP/84TMP
Au
Al
Ag
B -
C
Co
Cr
Cu
Fe
Ge -
Hf -
In -
Ir -
Mg -
Mn -
Mo
Nb -
Ni
Pd -
Pt -
Rh -
Ru -
Si(N型)
(1~50Ω・cm)
Si(P型)
(1~50Ω・cm)
Si(N型)(高抵抗)
(1000Ω・cm以上)
-
Si(N型)(高抵抗)
(5000Ω・cm以上)
-
Sn -
Ta
Ti
V -
W
Y -
Zn -
Zr -
SILICIDES 装置名
中型機 大型機
41CP/42CP/43TMP 81CP/82CP/83TMP/84TMP
CoSi2
MoSi2.5 -
NiSi2 -
TaSi2 -
TiSi2
WSi2
WSi2.5 -
ZrSi2 -
NITRIDES 装置名
中型機 大型機 
41CP/42CP/43TMP 81CP/82CP/83TMP/84TMP
AlN -
BN -
Mo2N -
Si3N4
ZrN -
CARBIDES 装置名
中型機 大型機
41CP/42CP/43TMP 81CP/82CP/83TMP/84TMP
SiC
TiC -
ALLOYS 装置名  
中型機 大型機
41DP/42CP/43TMP 81CP/82CP/83TMP/84TMP
Al-Cu 99.5:0.5wt%
Al-Nd - 98:2at%
Al-Sc - 99.9:0.1wt%
Al-Si 99:1wt%
Al-Si-Cu 98.5:1:0.5wt%
Al-Ti - 99.5:0.5wt%
Au-Sn - 70:30wt%
Cu-Ni - - 96:4wt%
Co-Cr - 85:15wt%
Fe-Co - 70:30at%
Ni-Cr 80:20wt%
Ni-Fe - 80:20wt%
Ni-V - 93:7wt%
TiW 10:90wt%
OXIDES 装置名     
 中型機 大型機
41CP/42CP/43TMP 81CP/82CP/83TMP/84TMP
Al2O3
AZO - 3:97wt%
BaTiO3 -
CeO2
CuO
Fe2O3 -
Ga2O3 -
Gd2O3 -
HfO2
In2O3 -
ITO 90:10wt%
IZO 89.3:10.7wt%
LiCoO2 -
LiMn2O4 -
LiNbO3 -
Li3PO4 -
MgO -
Mn2O3 -
Nb2O5 -
NiO -
PZT Pb(Zr0.52Ti0.48)O3
RuO2 -
SiO -
SiO2
SnO -
SnO2 -
SrRuO3 -
SrTiO3 -
Ta2O5
TiO2
WO3 -
Y2O3 -
ZnO
ZrO2 : Y2O3 - YSZ(97:3mol%)安定化ジルコニア

これらのターゲットも対応可能です。

METALS Bi
SILICIDES CrSi2 3:97wt%
WSi0.4
NITRIDES Cr2N
CARBIDES WC
ALLOYS Cu-Cr 92:8wt%
Cu-Cr 94:6wt%
Cu-Cr 96:4wt%
Cu-Ni 94:6wt%
Co-Ni 80:20wt%
Ni-Cr-Si 40:40:20wt%
Ni-Cr-Si 45:45:10wt%
OXIDES CaCO3
CrSiO 40:60at%
TaSiO2 20:80at%
TaSiO2 30:70at%
TaSiO2 40:60at%
TaSiO2 45:55at%
Ta-SiO2-Ni 65.7:32.7:1.6at%
OTHERS BK7
テフロン
CaF
CaF2
MgF2