スパッタリング装置仕様

CFS-4ES型(1号機)

CFS-4ES型(1号機)
スパッタ方式 サイドスパッタ
基板加熱 MAX300℃
基板ホルダー Φ200mm
逆スパッタ 可能
膜厚分布 ±10%位(Φ150mm以内)
反応スパッタ 可能
スパッタ用電源 RF MAX 300W
スパッタ源 マグネトロン式
スパッタ源3個
排気系(ポンプ)
粗引き
油回転
排気系(ポンプ)
メイン
油拡散

 

SRV-4300型(2号機)

SRV-4300型(2号機)
スパッタ方式 スパッタアップ
基板加熱 MAX300℃
基板ホルダー Φ320mm
逆スパッタ 可能
膜厚分布 ±10%位(Φ220mm以内)
反応スパッタ 可能
スパッタ用電源 RF MAX 500W
DC MAX 1kW
スパッタ源 マグネトロン式
スパッタ源3個
排気系(ポンプ)
粗引き
油回転
排気系(ポンプ)
メイン
油拡散

 

SRV-4310型(3号機)

SRV-4310型(3号機)
スパッタ方式 スパッタアップ
基板加熱 MAX300℃
基板ホルダー Φ320mm
逆スパッタ 可能
膜厚分布 ±10%位(Φ220mm以内)
反応スパッタ 可能
スパッタ用電源 RF MAX 500W
DC MAX 1kW
スパッタ源 マグネトロン式
スパッタ源3個
排気系(ポンプ)
粗引き
油回転
排気系(ポンプ)
メイン
クライオ

 

CFS-12P-100型(4号機)

CFS-12P-100型(4号機)
スパッタ方式 スパッタアップ
基板加熱 MAX180℃
基板ホルダー Φ396X4ステージ
Φ1000X1ステージ
逆スパッタ 可能
膜厚分布 ±10%位
(Φ1000ステージは要相談)
反応スパッタ 可能
スパッタ用電源 DC MAX 2kW
RF MAX 2kW
スパッタ源 マグネトロン式
スパッタ源3個
排気系(ポンプ)
粗引き
油回転
メカニカルブースター
排気系(ポンプ)
メイン
クライオ

 

SDH10311型(5号機)

SDH10311型(5号機)
スパッタ方式 サイドスパッタ
基板加熱 不可
基板ホルダー Φ410X4ステージ
逆スパッタ 可能
膜厚分布 ±10%位
反応スパッタ 可能
スパッタ用電源 DC MAX 4kW
スパッタ源 マグネトロン式
スパッタ源3個
排気系(ポンプ)
粗引き
油回転
メカニカルブースター
排気系(ポンプ)
メイン
クライオ

 

SRV-4320型(6号機)

SRV-4320型(6号機)
スパッタ方式 スパッタアップ
基板加熱 MAX300℃
基板ホルダー Φ320mm
逆スパッタ 可能
膜厚分布 ±10%位
(Φ220mm以内)
反応スパッタ 可能
スパッタ用電源 RF MAX 500W
DC MAX 1kW
スパッタ源 マグネトロン式
スパッタ源3個
排気系(ポンプ)
粗引き
油回転
排気系(ポンプ)
メイン
ターボ分子

 

STV10321型(7号機)

STV10321型(7号機)
スパッタ方式 スパッタアップ
基板加熱 MAX200℃
基板ホルダー Φ410X4ステージ
Φ500X1ステージ
逆スパッタ 可能
膜厚分布 ±10%位
(Φ500ステージは要相談)
反応スパッタ 可能
スパッタ用電源 DC MAX 4kW
RF MAX 2kW
スパッタ源 マグネトロン式
スパッタ源3個
排気系(ポンプ)
粗引き
油回転
メカニカルブースター
排気系(ポンプ)
メイン
ターボ分子

検索用入力欄

記入時注意事項

  • テーブルの行列は変更しないでください。
  • 分類が複数ある場合は、| ←半角の縦棒で区切って連続で入力してください。
    また、区切り文字の前後に空白は入れないでください。
製品分類1 成膜・フォトリソ・エッチング
製品分類2 絶縁膜|裏面電極|リチウム2次電池|ITO|PZT|ロールtoロール
プロセス分類
サムネイル画像 スパッタリング装置仕様
説明文
リダイレクトURL