技術案内:データ 耐プラズマ性評価 スパッタでCVD法と同等の絶縁膜特性を持つ、各種絶縁膜を実現 次世代パワーデバイス 研究開発向け受託加工 常温スパッタによる低抵抗ITO 薄膜リチウムイオン二次電池 ITOスパッタ膜のシート抵抗及び透過率 圧電素子向け 高品質ピエゾ膜(PZT等) ロール to ロール成膜(Al、Cu等) 薄膜受託解析・分析 CVD実績表 マイクロレンズアレイ作製 薄膜熱電対 薄膜メンブレン 電子MEMS 成膜、フォトリソ、エッチングの受託・代行 基板手配 成膜加工 イオン注入 フォトリソ エッチング加工 CMP加工 ウェハ接合 技術案内:データ 耐プラズマ性評価 スパッタでCVD法と同等の絶縁膜特性を持つ、各種絶縁膜を実現 次世代パワーデバイス 研究開発向け受託加工 常温スパッタによる低抵抗ITO 薄膜リチウムイオン2次電池 ITOスパッタ膜のシート抵抗値及び透過率 圧電素子向け 高品質ピエゾ膜(PZT等) ロール to ロール 受託成膜加工 薄膜受託解析・分析 CVD 実績表 マイクロレンズアレイ作製 薄膜熱電対 薄膜メンブレン MEMSトータルソリューション マイクロ流体チップ(µTAS) ナノインプリントトータルソリューション 精密洗浄受託サービス スーパーブラスト 半導体装置部品の販売/再生/修理/オーバーホール/フィールドサービス 微細加工装置(加工機) スパッタリングターゲット・ボンディング加工