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PSS 量産システム TEXシリーズ

LEDの光取り出し効率や化合物半導体結晶のエピタキシャル成長の格子整合を高めるためにサファイヤ基板表面に パターン形成するPSS(Patterned Sapphire Substrate)技術はコンタクト露光プロセスが一般的です。 基板面の一括転写等の必要性から数年前にナノインプリント技術の導入が検討されたが、不完全な技術で あったり費用対効果が見出せず導入に至っておりません。現在、更なるパターンの微細化、基板の大口径化が進むにあたり、PSS技術はステッパーレベル以上のフォトリソ技術の導入かナノインプリント技術の導入か新たな局面を迎えております。
当社は、従来のナノインプリント技術の課題を克服し、フォトリソプロセスに技術的にもコスト的にも優位なナノインプリント技術を利用したPSS 量産システム TEXシリーズを提供します。

PSS 量産システム TEXシリーズの特徴

  1. 量産装置価格: 他社装置の1/2以下
  2. 装置信頼性: 真空・加圧の無いシンプルな装置構成
  3. ランニングコスト: 耐久性に優れた独自材料のモールドを使用(フィルムモールドではありません)
  4. パターン精度: フォトニックレベル(∅250nm)まで可能
  5. スループット: 120枚/時間の高速処理を実現(他社比 3~4倍の能力)

装置構成の一例

装置構成の一例図

同プロセスを用いたサファイア基板へのNIL、ドライエッチング例

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Φ4インチサファイア基板の全面転写

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残膜制御されたUVレジンパターン

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ドライエッチング後サファイア基板断面選択比:0.8を実現!
*ドライエッチングは本システムに含まれません。

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製品分類1 ナノインプリント |微細加工装置
製品分類2 離型処理(FineMozt)|インプリント(転写)
プロセス分類
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