ナノ・マイクロオーダー微細構造を実現するナノインプリントソリューション TEXシリーズ 
ナノインプリントを利用した微細パターンにより、製品及び材料の機能向上（高効率・高機能・光学特性など）を実現。
従来のフォトリソグラフィー方式と比べ、研究開発から量産用途まで簡単に効果をだせるソリューションとなります。
特徴
- 真空・加圧が必要ないシンプルな構成
- 解像度：100nmレベルでの微細構造パターン製作
- 高い生産性（スループットは1~2分）
- 従来のナノインプリント装置に比べ、高い残膜制御性（15nm以下）
- 優れた基板への追随性により、高い面内均一性を実現
マスターモールド・ソフトモールド・UVレジン・転写装置全てをシステム化
“導入しやすい”ナノインプリントシステムです
L/Sパターン（AR, MR）
モスアイ反射防止レンズ（石英）
ナノワイヤー製造工程での適用
＊名城大学上山教授御提供
用途（アプリケーション）
- AR,VR関連
- 3Dセンサー（ホログラム）
- メタレンズ
- フレキシブルMEMS
- LSPR（マイクロ流路など）
- 3Dホログラム
- 光取り出し効率向上（LED,レーザー）
- 細胞培地（医療、バイオ
TEXシリーズ ラインナップ
| 装置型式 | TEX-01 | TEX-02 | TEX-2.5 | TEX-03 |
|---|---|---|---|---|
| 適応ウェハサイズ | 2” & 4” | 4” & 6” | 4” & 6” | 4” & 6” |
| スループット | R&D用手動機の為、 適応外 |
60秒～80秒 | 40秒～60秒 | 40秒～60秒 |
| インプリント操作 | 手動 | 自動 | 自動 | 自動 |
| ウェハー挿入・取り出し | 手動 | 手動 | 自動 | 自動 |
| カセット to カセット 搬送 |
無し | 無し | カセット to カセット 搬送 |
カセット to カセット 搬送 |
| モールド自動交換機構 | 無し | 無し | 無し | 自動 |
| クリーンルームクラス | Class 1000 設計 | Class 1000 設計 | Class 1000 設計 | Class 100 設計 |
インプリントプロセス
フロー
1.塗布
2.加圧
3.形状転写
4.離型
受託加工も承ります。
検索用入力欄
記入時注意事項
- テーブルの行列は変更しないでください。
- 分類が複数ある場合は、| ←半角の縦棒で区切って連続で入力してください。
また、区切り文字の前後に空白は入れないでください。
| 製品分類1 | ナノインプリント |
|---|---|
| 製品分類2 | インプリント（転写）|ナノ加工装置（TEX） |
| プロセス分類 |
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| サムネイル画像 |
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| 説明文 |
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| リダイレクトURL |
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