MEMS量産(MEMSファウンドリー)
スウェーデンのMEMSファウンドリーSilex Microsystems社との提携により、お客様デザインのMEMSデバイス量産サービスを提供します。
Silex Microsystems社について
- 自社製品を持たない、“Pure Play”なMEMSファウンドリー
- 豊富なSi微細加工実績に基づき、独自構造VIAなどのパターン形成やウェハ接合など最適なプロセスや材料を提案いたします。
- MEMS専用8インチ製造ライン。(12インチファブ計画中)
加工設備一覧はこちらをご覧下さい。 - 2000年の設立時より、これまで世界中のお客様と350を超えるプロジェクト実績。
- 実績のある分野:ライフサイエンス、通信、IT、産業用途、科学技術用途、等。
- 実績のあるアプリケーション:RF-MEMS、TSV、マイクロミラーアレイ、光スイッチ、インクジェットプリンタヘッド、カンチレバー、圧力センサ、加速度センサ、等。
実績の詳細はこちらをご覧下さい。
独自技術① Si電極TSV (Sil-Via™)
低抵抗Si(シリコン)ウェハをDRIE加工、絶縁加工による、母材と同じSiのVIA電極を持つTSVウェハです(メタル不要)。
本技術を採用する事により、低コスト&高歩留まりの実装パッケージングが可能となります。
- オールSi構造のため熱膨張差が少ない、メタル電極埋め込みが不要
- 高温耐久性(~1100℃)、真空封止パッケージングが可能
- CMOSデバイスとMEMSデバイスのウエハレベルでの実装・パッケージングが可能
- 高真空封止が必要な、加速度センサ(Gセンサ)、角速度センサ(ジャイロ)、圧力センサに最適
独自技術② Cu電極TSV (Met-Cap™)
独自構造のCu電極TSVを開発。低抵抗で高歩留りの生産を実現しています。
RFMEMS用のウェハレベルパッケージングに最適なTSV基板です。
- 独自の中空構造により、Cu-TSVの標準プロセスを構築
- RF MEMSのウェハレベルキャッピングに適応可能
- ウエハ厚 400μmで、Via抵抗<25mΩを実現
- 1.33Pa(Getter有)、133.32Pa(Getter無)の気密封止可能
- ビア歩留り率99.9%以上
独自技術③ ガラスビア
昨今のモバイル機器やタブレット端末の薄型化のトレンドから、ガラスビア技術を開発しました。
- 100µm厚程度の薄型ガラスビア技術を開発。
- 優れた電気絶縁性、低誘電体性、高い気密性を実現。
- 優れた電力損失特性によりRF-MEMSのWLPに適用可能。
独自技術④ PZT膜生産技術
スパッタ法によるPZT生産技術を導入しました。
アクチュエータ、エナジーハーベスト、センシング向けの高品質PZT膜を提供します。
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| 製品分類1 | MEMS |
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| 製品分類2 | MEMS量産 |
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