スピンプロセッサー

多目的スピンコーター POLOS

スピンコーターとは

スピンコーターとは平滑な基材を高速回転させる事により遠心力で薄膜を構成する装置です。装置の名称はスピナーとも呼ばれています。
回転速度が速いほど、生成される薄膜は薄くなり中心と周辺で膜厚を均質にする必要があります。

POLOSとは

オランダSPS社が開発したPOLOSは、樹脂を全面的に採用した樹脂製スピンコーターです。一般的なスピンコーターはステンレスを用いる為、金属汚染、耐薬液性、洗浄の手間の問題がありますが、樹脂製スピンコーターPOLOSにおいては、それらの課題に悩まされる事はありません。またシームレスに組み上げた密閉性の高い構造、静音性、安定性、加速度性に優れたモーターにより、安定して再現性の高い結果を得る事が出来るだけでなく、スピン現像、スピンエッチング、リンス/洗浄、スピン乾燥といった多目的に使用する事が出来ます。
また豊富なチャックがオプションとして用意されており、チップサイズから大径基板まで幅広い基板に対応します。
スタンドアロンモデルの他、ユーティリティーと一体化したウェットステーションタイプ、またウェットステーションに組み込む為のコンポーネントといったラインアップも充実しています。

POLOSラインアップ

	仕様			使用例
ディスペンス	型式-タイプ（型）	概略	対応基板サイズ	乾燥	リンス	洗浄	エッチング	現象	コーティング マニュアル	コーティング オートマチック
マニュアル	Spin150i　デスクトップ Spin150i-INT　組み込み	スタンダード型 ・3つのプログラム用アウトプット端子付き。 （例：ディスペンス ユニット、N2 ディフューザー等） ・アウトプット端子の使用によりオートマチックディスペンスとして使用可能	φ160mm(or 6”) or 4”x4”まで	○	○	○	○	○	○	-
マニュアル	Spin200i　デスクトップ Spin200i-INT　組み込み	スタンダード型 ・3つのプログラム用アウトプット端子付き。 （例：ディスペンス ユニット、N2 ディフューザー等） ・アウトプット端子の使用によりオートマチックディスペンスとして使用可能	φ260mm(or 8”) or 6”x6”まで	○	○	○	○	○	○	-
オートマチック	POLOS200i-ADV　デスクトップ POLOS200i-ADV-INT　組み込み	アドバンスト型 ・LAN接続により無制限の I/O制御が可能。 ・重い基板や高加速度に対応した高耐久性/ 高トルクのモーターを使用。 ・様々なカスタマイズに 対応。	φ260mm(or 8”) or 6”x6”まで	○	○	○	○	○	-	○
オートマチック	POLOS300i-ADV　デスクトップ POLOS300i-ADV-INT　組み込み	アドバンスト型 ・LAN接続により無制限の I/O制御が可能。 ・重い基板や高加速度に対応した高耐久性/ 高トルクのモーターを使用。 ・様々なカスタマイズに 対応。	φ360mm(or 12”) or 8”x8”まで	○	○	○	○	○	-	○

＊オプションにより、最大角基板1000mmまで対応可能。

MEMS、R＆D、少量生産向けに設計された樹脂製多目的スピンコーター"POLOS"

多目的スピンコーター"POLOS"の特徴

• 樹脂製のスピンコーターだから…
  ・使い易い！＝汚れても簡単に洗浄できます。
  ・多目的に使える！＝エッチング、現像、スピンドライなど。
  ・薬品に対して強い！（ポリプロピレン or テフロン）
• ブラッシュレスモーター採用だから…
  ・重い基板でも正確に回転
  ・加速スピード設定や逆回転・パドル動作の設定が可能
  ・回転数は、最大 12000rpm。高粘度の材料コートが可能
• 豊富なオプションや拡張性があるから…
  ・チップサイズから大型基板(1000mm角）まで対応
  ・用途に応じて選択できる豊富なラインナップ
  　＊滴下方式：マニュアルタイプ/オートマチックタイプ
  　＊デスクトップタイプ/組み込みタイプ
  　＊ユーティリティー一体型枚葉式スピンプロセッサー"ミニウェットステーション"
  ・真空チャック、メカニカルチャックなど多様な基板保持方法が選択可能
  ・ポンプ、液槽、外部機器のフィードバック制御などカスタマイズ自由自在

ユーティリティー一体型スピンコーター"POLOS ミニウェットステーション（MWS)"

ユーティリティー一体型スピンコーター"POLOS ミニウェットステーション（MWS)"の機能

基板サイズ	Φ300mmモデル（～ 260までの基板処理可能） Φ400mmモデル（～ 360までの基板処理可能） カスタムで大型基板（～600 x 600mm）対応可能
チャンバー材質	PP、PTFE（TFM1600）、PFA、ECTFEより選択。
モーター	・標準タイプ 1～10,000rpm、右回り、Φ8"基板使用時加速2,000回転/秒 ・ヘビーデューティータイプ 1～10,000rpm、右回り＆左回り、Φ8"基板使用時加速3,000回転/秒 上記タイプより選択。詳細なモニター仕様の違いはお問合せ下さい。
主なオプション	・リニア駆動薬液供給アーム、薬液供給ノズル・ラインの増設、メガソニックの洗浄機構 ・再循環可能な薬液供給、排気システム、高圧ジェット、薬液供給温度制御 ・裏面および側面へのスプレーノズル取付け（例：エッジビード除去等）、各種チャック（真空、メカニカル、裏面保護等 300種類以上）、安全インターロック

＊コンパクト、シンプルな筐体デザイン。
＊お客様の仕様に合わせてカスタマイズ対応可能。

※詳細・カスタマイズはご相談下さい。
 

オリジナルミニウェットステーションの作製

多目的スピンコーターPOLOSのコンポーネントを利用して、お客様オリジナルのウェットステーションの製作にご利用頂く事が可能です。コンポーネントのみのご提供、またはシステムとしてウェットステーション全体のコーディネート、共に対応可能ですので、お問い合わせください。

POLOS 各種基板ホルダー

耐薬品対応表

（参考）
チャンバー材質：NPP（Natural Poly Propylene）/標準 or PTFE（テフロン）/オプション
○：使用可能　-：使用不可　▲：使用条件によっては破損の可能性があるため、お問合せください。

使用薬液	分子式	NPP	PTFE
酢酸	C2H2O2	○	○
アセトン	C3H6O	○	○
α-テルピネオール	C10H18O	○	○
水酸化アンモニウム	NH4OH	○	○
塩化アミル	C5H11Cl	-	○
メトキシベンゼン	C7H8O	○	○
ベンゼン	C6H6	-	○
臭素	Br	-	▲
クロロベンゼン	C6H5OI	○	○
クロロホルム	CHCl3	○	○
ジエチルケトン	C5H10O	○	○
ジエチルマロネート	C11H20O4	○	○
エチレングリコール	C2H6O2	○	○
シクロヒキサン	C6H12	-	○
シクロヘキサノン	C6H10O	-	○
フッ素	F2	-	-
ヘキサメチルジシラザン	C6H19NSi2	○	○
ヘキサン	C6H14	○	○
臭酸	HBr	▲	▲
塩酸	HCI	▲	▲
フッ酸	HF	▲	▲
過酸化水素水	H2O2	○	○
ヨード	I2	○	○
イソプロピルアルコール（IPA）	C3H8O	○	○
トリメチルベンゼン	C9H12	○	○
オゾン水	O3 & H2O	○	○
メタノール	CH4O	○	○
メチルエチルケトン（MEK）	C4H8O	○	○
塩化メチレン	CH2CI2	○	○
メチルイソブチルケトン（MIK）	C6H12O	○	○
N-メチル-2-ピロリドン（NMP）	C5H9NO3	○	○
硝酸	HNO3	▲	○
リン酸	H3O4P	○	○
フォトレジスト		○	○
ポリメチルメタクリレート（PMMA）	C5H8O2	○	○
水酸化カリウム	KOH	○	○
硫酸	H2SO4	▲	▲
テトラハイドロフラン（THF）	C4H8O	○	○
トルエン	C7H8	○	○
トリクロロエンタン（TCA）	C2H3CI3	○	○
トリクロロエチレン（TCE）	C2HCI3	○	○
キシレン	C12H15O6	○	○

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