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常温スパッタリングによる高品質ITO、AZO成膜
シンガポールの物質材料工学研究所IMRE (Institute of Material Research and Engineering)が開発した、常温スパッタリングによる低抵抗かつ透過率の高いITO、AZOの成膜を行います。
常温プロセスの為、樹脂フィルムや熱に弱い基板/構造にも高品質の成膜が可能。有機太陽電池（OPV）、OLED等の試作開発に最適。
ウェハー面内抵抗値
ITO
常温
| 膜厚 (nm) | シート抵抗 (Ω/□) |
抵抗値 (µΩ・cm) |
膜厚 面内分布 (Average %) |
|---|---|---|---|
| 100 | 44.4 (±26.2%) |
450 (±15%) |
±10.4% |
| 150 | 29.6 (26.2%) |
AZO
常温
| 膜厚 (nm) | シート抵抗 (Ω/□) |
抵抗値 (µΩ・cm) |
膜厚 面内分布 (Average %) |
|---|---|---|---|
| 100 | 300 - 1500 |
3000 - 15000 |
±10.2% |
| 150 | 200 - 1000 |
透過率
ITO
| 膜厚 (nm) | 波長 (nm) | 透過率 (%) |
|---|---|---|
| 100 | 500 | 88 |
| 150 | 500 | 88 |
AZO
| 膜厚 (nm) | 波長 (nm) | 透過率 (%) |
|---|---|---|
| 100 | 500 | 88 |
| 150 | 500 | 88 |
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