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グレースケールマスクによるマイクロレンズアレイなどの3Dフォトリソ加工

グレーマスクを使用し、高精度のマイクロレンズアレイを作製します。
グレースケールマスクの設計製作からマイクロレンズアレイの製作まで対応致します。

マイクロレンズアレイ

マイクロレンズアレイのSEM
レンズピッチ:±1.5%
レンズSAG量:±1.5nm
  • レンズアレイピッチ:10~1000µm
  • レンズSAG量:5~100µm
  • レンズ精度:曲率精度:±1.5% 形状精度:±1.5nm
  • レンズアレイ領域:最大140mmΦまで
  • レンズアレイ材質:石英、シリコン、レジスト、金属(電鋳)

グレースケールマスク

グレースケールマスクSEM(透過率が低い領域)
透過率が低い領域
グレースケールマスクSEM(透過率が低い領域)
透過率が高い領域
  • 透過率範囲:5~75%
  • 透過率階調:0.1%以下/階調が可能
  • マスク基板大きさ:2~8インチ
  • マスク基板厚さ:2~10mm

工程の一部からでも加工可能です。仕様の詳細についてはお問合せ下さい。

電子MEMS製品・サービスへのお問い合わせ
TEL:044-852-7575(電子部)
FAX:044-854-1979(代)
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神奈川県川崎市宮前区宮崎2-10-9
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バイオ

[バイオ研究用 機器・試薬]

  • 核酸
  • 細胞培養・イメージング
  • タンパク質・有機物

[バイオ技術を使った商品]

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