 
 電子部
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FAX)044-854-1979
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| 名称 |
膜構造 |
備考 |
| Th-OX |
熱酸化膜単層 |
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| TEOS-OX |
プラズマTEOS酸化膜単層 |
- |
| HDP-OX |
HDP酸化膜単層 |
熱処理有り |
| Cu |
メッキCu
シードCu（スパッタ）
Taスパッタ
熱酸化膜
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φ8"ノッチタイプのみ
熱処理有り
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| W |
CVD W
TiN（スパッタ）
プラズマ酸化膜
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- |
| TiN |
TiNスパッタ
プラズマ酸化膜
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- |
| Ta |
Ta（スパッタ）
熱酸化膜
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| TaN |
TaN（スパッタ）
熱酸化膜
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| Poly-Si |
LP Poly-Si |
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| LP-SiN |
LP Si3N4単層 |
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| PE-SiN |
プラズマSiN膜単層 |
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| PE-SiO |
プラズマSiO膜単層 |
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| PE-SiON |
Poly-Si膜単層 |
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| Low-K |
SIOC, SIC 等 |
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◆ウェハサイズは原則 8インチノッチタイプ、 6インチオリフラタイプとなります。その他のサイズについてはお問合せください。
◆膜厚についてはご相談ください。また、これらの膜種を組み合わせた構造についても検討しますのでご相談ください。
◆これらウェハのパターン形成についても承ります。
◆各サンプルはオプションでレーザーマーク可能です。必要時はご指定ください。
◆バックグラインド加工についても必要に応じてご相談ください。
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