 
 電子部
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FAX)044-854-1979
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モールドは非常に高額なものであり、ひとつ傷がついてしまえば使用することができなくなってしまいます。
この高価なモールドを、ナノインプリント技術を利用し、モールドのレプリカ（複製）加工をお請けしております。微細なものや、様々な形状に対応いたします。 |
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ナノインプリントでご使用されたモールドの洗浄を行います。
熱・UVインプリント用と付着物に合わせた洗浄方法を選定し、転写不具合を解決いたします。 |
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NILの研究開発においては、モールド・樹脂・インプリント条件の最適化が必須です。協同インターナショナルでは、自社でのモールド作製・インプリント転写に加え、シンガポールの物質材料工学研究所 IMRE (Institute of Material Research and Engineering)との技術提携により、ナノインプリントの技術コンサルティングを提供します。
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事例（1）
クロスリンクさせた
ポリエチレンのピラー構造
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パターン
サイズ |
： |
250nm
（アスペクト比＝１） |
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基板 |
： |
Poly
(ethylene-napthalate)、
PEN |
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事例（2）
ナノスケールの
両面グレーティング構造
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パターンサイズ |
： |
200nm |
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基板 |
： |
PMMA、 Si |
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