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ナノインプリント各種ソリューション
モールドレプリカ(複製)加工
モールドは非常に高額なものであり、ひとつ傷がついてしまえば使用することができなくなってしまいます。
この高価なモールドを、ナノインプリント技術を利用し、モールドのレプリカ(複製)加工をお請けしております。微細なものや、様々な形状に対応いたします。
微細パターンへ均一にコーティング可能な弊社独自の技術を使い、離型処理を施すことができます。
モールド洗浄サービス
ナノインプリントでご使用されたモールドの洗浄を行います。 熱・UVインプリント用と付着物に合わせた洗浄方法を選定し、転写不具合を解決いたします。



<モールド材質>
Si
石英
Ni電鋳 etc
Si
石英
Ni電鋳 etc
技術コンサルティング
NILの研究開発においては、モールド・樹脂・インプリント条件の最適化が必須です。協同インターナショナルでは、自社でのモールド作製・インプリント転写に加え、シンガポールの物質材料工学研究所 IMRE (Institute of Material Research and Engineering)との技術提携により、ナノインプリントの技術コンサルティングを提供します。
- モールド・基板の表面エネルギー制御
- Reversal Imprinting
- Combinatorial-mold Imprinting
- Sequential Imprinting
- Plasticizer Assisted Imprinting
事例(1)
クロスリンクさせた
ポリエチレンのピラー構造
クロスリンクさせた
ポリエチレンのピラー構造
- パターンサイズ:200nm
(アスペクト比=1) - 基板:Poly
(ethylene-napthalate)、
PEN
事例(2)
ナノスケールの
両面グレーティング構造
ナノスケールの
両面グレーティング構造
- パターンサイズ:200nm
- 基板:PMMA、Si
事例(3)
2段階層の
グレーティング構造
2段階層の
グレーティング構造
- 基板:Polystyrene、Si


