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ナノインプリント(NIL)技術コンサルティング、モールド複製・洗浄

モールドレプリカ(複製)加工

モールドは非常に高額なものであり、ひとつ傷がついてしまえば使用することができなくなってしまいます。
この高価なモールドを、ナノインプリント技術を利用し、モールドのレプリカ(複製)加工をお請けしております。微細なものや、様々な形状に対応いたします。

モールド原版(Si、石英、Ni電鋳) レプリカ(複製)加工(ナノインプリント) Ni電鋳モールド
Fine MoZt(ファインモスト)ロゴ:微細パターンへのコーティング技術

微細パターンへ均一にコーティング可能な弊社独自の技術を使い、離型処理を施すことができます。

モールド洗浄サービス

ナノインプリントでご使用されたモールドの洗浄を行います。 熱・UVインプリント用と付着物に合わせた洗浄方法を選定し、転写不具合を解決いたします

受け入れ検査:顕微鏡による樹脂付着の確認
SEM写真:洗浄前
ウェット洗浄:薬液先天 浸漬
SEM写真:ウェット洗浄後
ドライ洗浄:RIE、O2アッシング
SEM写真:ドライ洗浄後
出荷検査:顕微鏡による樹脂付着の状況確認
<モールド材質>
Si
石英
Ni電鋳 etc

技術コンサルティング

NILの研究開発においては、モールド・樹脂・インプリント条件の最適化が必須です。協同インターナショナルでは、自社でのモールド作製・インプリント転写に加え、シンガポールの物質材料工学研究所 IMRE (Institute of Material Research and Engineering)との技術提携により、ナノインプリントの技術コンサルティングを提供します。

  • モールド・基板の表面エネルギー制御
  • Reversal Imprinting
  • Combinatorial-mold Imprinting
  • Sequential Imprinting
  • Plasticizer Assisted Imprinting
事例(1)
クロスリンクさせた
ポリエチレンのピラー構造
SEM写真:クロスリンクさせたポリエチレンのピラー構造
  • パターンサイズ:200nm
    (アスペクト比=1)
  • 基板:Poly
    (ethylene-napthalate)、
    PEN
事例(2)
ナノスケールの
両面グレーティング構造
SEM写真:ナノスケールの両面グレーティング構造
  • パターンサイズ:200nm
  • 基板:PMMA、Si
事例(3)
2段階層の
グレーティング構造
2段階層のグレーティング構造
  • 基板:Polystyrene、Si
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TEL:044-852-7575(電子部)
FAX:044-854-1979(代)
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〒216-0033
神奈川県川崎市宮前区宮崎2-10-9
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バイオ

[バイオ研究用 機器・試薬]

  • 核酸
  • 細胞培養・イメージング
  • タンパク質・有機物

[バイオ技術を用いた商品]

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