MEMS開発ツール
R&D・試作から中量産向けの優れたMEMS開発加工ツールをご提案します。
カスタマイズにも対応致します。
コーター・デベロッパー
樹脂性多目的スピンプロセッサー “POLOS”
≪製品特徴≫
(1)オール樹脂製のスピンプロセッサーだから…- 使い易い!=汚れても簡単に洗浄できます。
- 多目的に使える!=エッチング、現像、スピンドライなど。
- 薬品に対して強い!(ポリプロピレン or テフロン)
- 重い基板でも正確に回転
- 加速スピード設定や逆回転・0回転の設定が可能
- 回転数は、最大 10000rpm。高粘度の材料コートが可能
- チップサイズから大型基板(1000mm角)まで対応
- 用途に応じて選択できる豊富なラインナップ
*滴下方式:マニュアル(MCD)/オートマチック(ACD)
*デスクトップタイプ/装置組込み型OEMタイプ
*ユーティリティー一体型枚葉式スピンプロセッサー"ミニウェットステーション" - 真空チャック、メカニカルチャックなど多様な基板保持方法が選択可能
- ポンプ、液槽、外部機器のフィードバック制御などカスタマイズ自由自在
プリベーク・ポストベーク
ホットプレート “POLOS”
プリベーク、ポストベーク、キュアリング各種ウエハーに対応
用途に合わせた拡張が可能
プロキシミティチャック、バキュームチャック、リフトピンタイプ
複数ヒーターを搭載するカスタマイズが可能。
| 制御温度(標準仕様) | 50℃~250℃ |
|---|---|
| 優れた温度均一性 | ±0.5℃ |
| タイマー設定 | 1~999秒 |
| メンテナンス性に優れた設計 | |
フォトリソグラフィー
MEMS加工用UV露光装置
高い技術に定評のある、アメリカOAI社のUV露光装置
≪製品特徴≫
(1)コンパクトなR&D用途からセミ/フルオートマティックの中量産対応機までの豊富なラインナップ。
<代表的なR&D用途の機種>
マスクアライナー Model200
マスクアライナー Model800MBA
製品ラインアップページへ »
<代表的なR&D用途の機種>
マスクアライナー Model200
マスクアライナー Model800MBA
(2)ライトソースのみの販売も行っております。
UVライトソース Series30
製品ラインアップページへ »
UVライトソース Series30
(3)オプションで専用「コントローラ」、「チャック」を追加するだけで、「マイクロ流体チップの製造」「UVナノインプリント」が可能な装置へアップグレードさせることができます。
インプリントオプション資料ダウンロード(PDF 4.33MB)
ソーラーシミュレーター
OAI社のソーラーシミュレーターは太陽電池のエネルギー変換効率を
常に同じ条件で測定することを可能にする装置です
ウェットエッチング
MEMS加工用基板ホルダー “Silicet”
基板裏面を保護
- エッチャント基板裏面を完全に保護。
- 真空吸着による基板固定(低レジスト設計)です。
- 裏面コーティング、マスクが不要です。
- コスト、工数を大幅に削減し、歩留まりも向上します。
- 各種基板対応。
IR検査
IR検査装置 “MEMSCAN”
- 非破壊で、エアーギャップ、メンブレン厚みの測定が可能です。
- 多層構造の各層の膜厚測定ができます。
- 高スループットで、試作/開発~量産まで対応できます。







