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樹脂製多目的スピンプロセッサーラインアップ

樹脂製多目的スピンプロセッサーラインアップ

MCD （マニュアル滴下タイプ）	SPIN150	POLOS MCD 200 （デスクトップタイプ）	POLOS MCD 300 （組み込みタイプ）
ACD （オートマチック滴下タイプ）	POLOS ACD 200/300
ユーティリティー一体型	POLOS ミニウェットステーション（MWS)

POLOS 各種基板ホルダー

耐薬品対応表

使用例

MCD（マニュアル滴下タイプスピンプロセッサー）

SPIN 150

構成	キーボード付デスクトップタイプ
本体	チャンバー	チャンバー
	フタ内壁	スプラッシュ跳ね返り防止機能
	フタ	中心Φ19mm穴付　透明ガラス
	ホルダー	別途掲載
	基板サイズ	チップサイズからΦ6"まで
	回転数	1～6,000rpm （オプションにて10,000rpmまで可、非真空チャックは3,000rpmまで）
	加速度	0～3,000rpm/sec
	回転精度	±1rpm
	電源	100-120VAC、50/60Hz、2.5A
	消費電力	500W（最大）
制御部	シーケンス	20プログラムまでメモリー可能
		プログラム：99step/program
		ステップ時間：999sec/step
	インターロック	真空吸着
	インターロック	フタ開閉

仕様は、予告無く
変更する場合がございます。

スピンプロセッサー SPIN150 オプション
駆動系	ハイスピードモーター
各種チャック	真空チャック、真空チャック+ツメ付、チップ用。他、各種サイズ
他	センタリングツール。各種サイズ

＊ウェットベンチ等カスタマイズ対応可能。

※詳細・カスタマイズはご相談下さい。

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POLOS スピンプロセッサー MCD 200/300（デスクトップタイプ）

構成	キーボード付デスクトップタイプ
本体	チャンバー	NPP（標準）or PTFE（オプション）
	フタ内壁	スプラッシュ跳ね返り防止機能
	フタ	中心Φ19mm穴付　透明ガラス
	ホルダー	別途掲載
	基板サイズ	チップサイズからΦ12"まで
	回転数	1～6,000rpm （オプションにて10,000rpmまで可、非真空チャックは3,000rpmまで）
	加速度	0～2,000rpm/sec
	回転精度	±1rpm
	電源	100-120VAC、50/60Hz、2.5A
	消費電力	500W（最大）
制御部	シーケンス	50プログラムまでメモリー可能
		プログラム：99step/program
		ステップ時間：999sec/step
	インターロック	真空吸着
	インターロック	フタ開閉

仕様は、予告無く
変更する場合がございます。

POLOS スピンプロセッサー CD200/300　オプション
駆動系	ハイスピードモーター
本体	テフロン製に変更
各種チャック	真空チャック、真空チャック+ツメ付、チップ用。他、各種サイズ
他	センタリングツール。各種サイズ

＊埋め込み型OEMモデルもあります。ウェットベンチ等カスタマイズ対応可能。

※詳細・カスタマイズはご相談下さい。

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POLOS スピンプロセッサー MCD 200/300（組み込みタイプ）

構成	組み込み型OEMタイプ
本体	チャンバー	NPP（標準）or PTFE（オプション）
	フタ内壁	スプラッシュ跳ね返り防止機能
	フタ	中心Φ19mm穴付　透明ガラス
	ホルダー	別途掲載
	基板サイズ	チップサイズからΦ12"まで
	回転数	1～6,000rpm （オプションにて10,000rpmまで可、非真空チャックは3,000rpmまで）
	加速度	0～2,000rpm/sec
	回転精度	±1rpm
	電源	100-120VAC、50/60Hz、2.5A
	消費電力	500W（最大）
制御部	シーケンス	50プログラムまでメモリー可能
		プログラム：99step/program
		ステップ時間：999sec/step
	インターロック	真空吸着
	インターロック	フタ開閉

仕様は、予告無く
変更する場合がございます。

POLOS スピンプロセッサー MCD 200/300（組み込みタイプ）オプション
駆動系	ハイスピードモーター
本体	テフロン製に変更
各種チャック	真空チャック、真空チャック+ツメ付、チップ用。他、各種サイズ
他	センタリングツール。各種サイズ

＊キーボード付デスクトップタイプもあります。ウェットベンチ等カスタマイズ対応可能。

※詳細・カスタマイズはご相談下さい。

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ACD（オートマチック滴下タイプスピンプロセッサー）

POLOS スピンプロセッサー ACD 200/300

構成	キーボード付デスクトップタイプ
本体	チャンバー	NPP（標準）or PTFE（オプション）
	フタ内壁	スプラッシュ跳ね返り防止機能
	フタ	ディスペンス穴付　透明ドーム　ディスペンス2系統付（オプション6系統まで）
	ホルダー	別途掲載
	基板サイズ	チップサイズからΦ12"まで
	回転数	1～6,000rpm （オプションにて10,000rpmまで可、非真空チャックは3,000rpmまで）
	加速度	0～3,000rpm/sec
	回転精度	±1rpm
	電源	100-120VAC、50/60Hz、2.5A
	消費電力	500W（最大）
制御部	シーケンス	20プログラムまでメモリー可能
		プログラム：99step/program
		ステップ時間：999sec/step
		ディスペンスバルブコントロール：6系統
	インターロック	真空吸着
	インターロック	フタ開閉

仕様は、予告無く
変更する場合がございます。

POLOS スピンプロセッサー ACD 200/300 オプション
駆動系	ハイスピードモーター
本体	テフロン製に変更
各種チャック	真空チャック、真空チャック+ツメ付、チップ用。他、各種サイズ
他	センタリングツール。各種サイズ

＊Φ300mm基板対応タイプもあります。
＊埋め込み型OEMモデルもあります。ウェットベンチ等カスタマイズ対応可能。

※詳細・カスタマイズはご相談下さい。

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ユーティリティー一体型スピンプロセッサー

POLOS ミニウェットステーション（MWS)

仕様は、予告無く変更する場合がございます。

スピンプロセッサーと高精度の薬液供給システムを一体化し、一つのプログラムで複数のプロセスを設定可能なシステムです。
キャビネット内には、薬液共有システム、廃液システム、排気システムが組み込まれ、センサによるアラーム監視機能も搭載され、安全性にも配慮されています。
スピンプロセッサーは他モデル同様耐薬品性に優れた素材を使用（PP、PTFE等）。

機能
基板サイズ	Φ300mmモデル（～ 260までの基板処理可能） Φ400mmモデル（～ 360までの基板処理可能）カスタムで大型基板（～600 x 600mm）対応可能
チャンバー材質	PP、PTFE（TFM1600）、PFA、ECTFEより選択。
モーター	標準タイプ 1～10,000rpm、右回り、Φ8"基板使用時加速2,000回転/秒ヘビーデューティータイプ 1～10,000rpm、右回り&左回り、Φ8"基板使用時加速3,000回転/秒上記タイプより選択。詳細なモニター仕様の違いはお問合せ下さい。
主なオプション	リニア駆動薬液供給アーム、薬液供給ノズル・ラインの増設、メガソニックの洗浄機構再循環可能な薬液供給、排気システム、高圧ジェット、薬液供給温度制御裏面および側面へのスプレーノズル取付け（例：エッジビード除去等）、各種チャック（真空、メカニカル、裏面保護等 300種類以上）、安全インターロック

＊コンパクト、シンプルな筐体デザイン。
＊お客様の仕様に合わせてカスタマイズ対応可能。

※詳細・カスタマイズはご相談下さい。

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POLOS 各種基板ホルダー

小型基板用真空チャック		丸型基板用真空チャック 2" ～ 300mm ウェハ　対応
メカニカルチャック		丸型基板用 (真空チャック＋位置決めセンタリングピン付)
角型基板用メカニカルチャック (マスク、液晶セル‥)		丸型基板用メカニカルチャック (2"、3"、4"対応型)
その他真空チャックカスタマイズ対応		その他メカニカルチャック詳細はお問合せ下さい。