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MEMS用UV露光装置ラインアップ

OAIロゴ

OAI社はカルフォルニア州サンノゼにある会社であり、30年間、「UV露光」、「光学測定」用の精密装置のリディングカンパニーとして、装置製造及び、研究開発、測定サービスを行ってきました。

マスクアライナー

型式 用途 アライメント方式 基板サイズ 操作
Model200 R&D 片面 ~Φ8" マニュアル
Model500 R&D 片面 ~Φ8" セミオート
Model600 R&D 片面 ~20"×20" マニュアル
Model200IR R&D IR両面可能 ~Φ8" マニュアル
Model800MBA R&D 光学両面可能 ~Φ8" オートマチック
Model5000 R&D/量産 片面 ~Φ12" オートマチック
Model8000 R&D/量産 光学両面可能 ~Φ12" オートマチック
Model2000 量産 片面 ~Φ8" オートマチック
マスクアライナー Model200 : マニュアル式片面アライナー
写真:MEMS用UV露光装置/マスクアライナー/テーブルトップ(Model 200)

Model 200テーブルトップマスクアライナーは初級向けの装置で、リーズナブルなシステムです。主に大学や研究所、開発ラボや立上げ操作用に最適なモデルです。

機能
ステージ
  • X.Y軸動作 ±6.5mm
  • Z軸動作 1,500µm
  • ローテーション ±3.5度
露光時間
  • 0.1~99.0秒 (0.1秒間隔制御)
  • 1~999秒 (1秒間隔制御)
基板サイズ ~Φ8"、7"×7" 付帯設備
  • 電源 110V
  • 加圧ライン
  • 真空ライン
  • 給排水ライン
マスクサイズ ~9"×9" サイズ 940H×788W×635D
ライトソース
  • ビームサイズ ~Φ8"、7"×7"
  • ランプパワー
    200~2,000W
    Near UV
    500~2,000W
    Deep UV
重量 115Kg
  • 研究開発用途に最適なマニュアル操作タイプのコンパクト且つ安価モデル!
  • オプションで、専用ホルダとチャックコントローラをつける事により、"UVインプリント"が可能。
    “min 17nm”のL/S構造の加工実績あり!
マスクアライナー Model800MBA: オートマチック式両面アライナー
写真:MEMS用UV露光装置/マスクアライナー/裏面マニュアル式(Model 800MBA)

Model 800MBAマニュアル式裏面アライナーは、光学裏面アライメント機能を兼ね備えたハードパッケージに搭載されたシステムです。

機能
ステージ
  • X.Y軸動作 ±10mm
  • Theta ±4度
マスクコンタクト (1)隣接
(2)ソフトコンタクト
(3)ハード&真空コンタクト
基板サイズ ~Φ8" 解像度
  • ソフトコンタクト時 2µm
  • ハードコンタクト時 0.5µm
マスクサイズ ~9"×9" 露光時間 0.1~99.0秒 (0.1秒間隔制御)
チャック
コントロール
XYZ & Theta
(差動マイクロメーター)
付帯設備
  • 電源 220V 50Hz
    (UVライトソース仕様による)
  • 加圧ライン
  • 真空ライン
  • 給排水ライン
両面
アライメント方式
Topサイド、Backサイドともに デュアルCCTVマイクロスコープ サイズ 約1800H×1300W×820D
アライメント精度 Topサイドのみ:0.5µm
Top to Backサイド<2µm
重量 約450Kg
  • 高精度かつオートマチックでの両面アライメントが可能なハイエンドモデル!
  • オプションで、専用ホルダとチャックコントローラをつける事により、"UVインプリント"が可能。
IR方式両面アライナー Model 200IR
用途:R&D、マニュアル
マスクアライナー Model500
用途:R&D、セミオートマチック
写真:MEMS用UV露光装置/マスクアライナー/IR方式裏面アライナー(Model 200IR)

Model200にIR方式両面アライメント昨日を追加。

写真:MEMS用UV露光装置/マスクアライナー(Model 500)

Model 500シリーズマスクアライナーはより多くの用途向けに、幅広い特徴を提供します。 このモデルは、先端のR&Dや試作品、及びマイクロ流体製造(CLiPP)用途向けに理想的なパフォーマンスを発揮します。

マスクアライナー Model600
用途:大型基板向け、マニュアル
マスクアライナー Model 5000
用途:R&D~量産、オートマチック
写真:MEMS用UV露光装置/マスクアライナー/大型基板向け(Model 600MBA)

Model 600は大きめのフォーマットに適したマスクアライメント露光システムです。フラットパネルディスプレイやその他の大型基板(最大20″×20″まで)のプロセス需要に対応します。

写真:MEMS用UV露光装置/マスクアライナー/オートアライン(Model 5000)

Model 5000はフルオートマチック仕様で全てコンピューター制御のモデルです。密着露光も対応可能であり、実際の生産や最先端のR&D向けに適したシステムです。

マスクアライナー Model 8000
用途:R&D・MEMS~生産、オートマチック
エッジビーズ露光システム Model2000
用途:生産向けエッジビーズ除去専用機、 オートマチック
写真:MEMS用UV露光装置/マスクアライナー/MEMS用(Model 8000)

Model 8000はフルオートマチック、オールコンピューター制御、光学裏面密着露光の機能を兼ね備えたマスクアライナーシステムです。主に実際の生産ラインか最先端のR&D向けMEMSデバイスウェハに適しています。

写真:MEMS用UV露光装置/エッジビーズ露光システム (Model 2000)

Model 2000は投光照明露光またはエッジビーズ露光が可能なフルオートマチックタイプの装置です。
シャドウマスク技術が貴重なエッジビーズ除去工程を必要とする製品製造を容易にします。

UVライトソース

UVライトソース Series30:スタンドアローンタイプ
写真:UVライトソース/Series30:スタンドアローンタイプ

シリーズ30は様々なアプリケーションを意図した高効率な光源です。このUV光源は様々なランプが搭載されていることにより、多様で適切なビームサイズを選択することができます。

<OAI社製UVライトソース原理>
写真:UVライトソース/Series30:スタンドアローンタイプ UVライトソース原理
レンズ径 5" 7" 10" 12" 14" 16" - - - -
露光ビームサイズ 4" 6" 8" 10" 12" 14" - - - -
- 4" 6" 8" 10" 12" 14" 16" 18" 20"
ユニフォーミティ(径内) ±5% ±5% ±5% ±5% ±5% ±5% ±6% ±6% ±6% ±6%
コリメーション(1/2角) 2.6 2.3 2 1.6 1.4 1.2 1 0.8 0.6 0.4
スペクトラム Near UV 365nm、405nm、436nm
Mid UV 310nm
Deep UV 210nm、260nm
ランプ電力 200W、 350W、 500W、 1000W、2000W
3.5KW、5KW、は特注にて対応可能
  • 幅広い波長の製品ラインナップ(Near UV、Mid UV、Deep UV)
  • 大面積対応(最大20"× 20")
  • 他社マスクアライナーへの搭載も可能です。(詳細はお問合せ下さい)
大型基板向けライトソース  
写真:UVライトソース/大型基板向けライトソース

大型基板用ライトソースグランド(LSG)シリーズは、平行ミラー技術を最適化するシステムです。LSGシリーズはビームサイズは20"×20"まで、ランプワット数も1kW~12kWまで上げることができます。

 

UVメーター&プローブ

写真:UVメーター&プローブ

OAIは正確な信頼性のある、校正機能を持ったデジタル測定システムを提供します。OAI製メーターはフォトリソグラフィー、UV安定装置、接着材やその他の材料向けのUV矯正システムのモニタリング用にデザインされています。

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