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MEMS用UV露光装置ラインアップ
OAI社はカルフォルニア州サンノゼにある会社であり、30年間、「UV露光」、「光学測定」用の精密装置のリディングカンパニーとして、装置製造及び、研究開発、測定サービスを行ってきました。
マスクアライナー
| 型式 | 用途 | アライメント方式 | 基板サイズ | 操作 |
|---|---|---|---|---|
| Model200 | R&D | 片面 | ～Φ8" | マニュアル |
| Model500 | R&D | 片面 | ～Φ8" | セミオート |
| Model600 | R&D | 片面 | ～20"×20" | マニュアル |
| Model200IR | R&D | IR両面可能 | ～Φ8" | マニュアル |
| Model800MBA | R&D | 光学両面可能 | ～Φ8" | オートマチック |
| Model5000 | R&D/量産 | 片面 | ～Φ12" | オートマチック |
| Model8000 | R&D/量産 | 光学両面可能 | ～Φ12" | オートマチック |
| Model2000 | 量産 | 片面 | ～Φ8" | オートマチック |
マスクアライナー Model200 : マニュアル式片面アライナー
Model 200テーブルトップマスクアライナーは初級向けの装置で、リーズナブルなシステムです。主に大学や研究所、開発ラボや立上げ操作用に最適なモデルです。
| 機能 | |||
|---|---|---|---|
| ステージ |
|
露光時間 |
|
| 基板サイズ | ～Φ8"、7"×7" | 付帯設備 |
|
| マスクサイズ | ～9"×9" | サイズ | 940H×788W×635D |
| ライトソース |
|
重量 | 115Kg |
- 研究開発用途に最適なマニュアル操作タイプのコンパクト且つ安価モデル！
- オプションで、専用ホルダとチャックコントローラをつける事により、"UVインプリント"が可能。
“min 17nm”のL/S構造の加工実績あり！
マスクアライナー Model800MBA: オートマチック式両面アライナー
Model 800MBAマニュアル式裏面アライナーは、光学裏面アライメント機能を兼ね備えたハードパッケージに搭載されたシステムです。
| 機能 | |||
|---|---|---|---|
| ステージ |
|
マスクコンタクト | （1）隣接 （2）ソフトコンタクト （3）ハード＆真空コンタクト |
| 基板サイズ | ～Φ8" | 解像度 |
|
| マスクサイズ | ～9"×9" | 露光時間 | 0.1～99.0秒 （0.1秒間隔制御） |
| チャック コントロール |
XYZ & Theta （差動マイクロメーター） |
付帯設備 |
|
| 両面 アライメント方式 |
Topサイド、Backサイドともに デュアルCCTVマイクロスコープ | サイズ | 約1800H×1300W×820D |
| アライメント精度 | Topサイドのみ：0.5µm Top to Backサイド<2µm |
重量 | 約450Kg |
- 高精度かつオートマチックでの両面アライメントが可能なハイエンドモデル！
- オプションで、専用ホルダとチャックコントローラをつける事により、"UVインプリント"が可能。
| IR方式両面アライナー Model 200IR 用途：R&D、マニュアル |
マスクアライナー Model500 用途：R&D、セミオートマチック |
|---|---|
Model200にIR方式両面アライメント昨日を追加。 |
Model 500シリーズマスクアライナーはより多くの用途向けに、幅広い特徴を提供します。 このモデルは、先端のR&Dや試作品、及びマイクロ流体製造（CLiPP）用途向けに理想的なパフォーマンスを発揮します。 |
| マスクアライナー Model600 用途：大型基板向け、マニュアル |
マスクアライナー Model 5000 用途：R&D～量産、オートマチック |
Model 600は大きめのフォーマットに適したマスクアライメント露光システムです。フラットパネルディスプレイやその他の大型基板（最大20″×20″まで）のプロセス需要に対応します。 |
Model 5000はフルオートマチック仕様で全てコンピューター制御のモデルです。密着露光も対応可能であり、実際の生産や最先端のR&D向けに適したシステムです。 |
| マスクアライナー Model 8000 用途:R&D・MEMS～生産、オートマチック |
エッジビーズ露光システム Model2000 用途：生産向けエッジビーズ除去専用機、 オートマチック |
|
Model 8000はフルオートマチック、オールコンピューター制御、光学裏面密着露光の機能を兼ね備えたマスクアライナーシステムです。主に実際の生産ラインか最先端のR&D向けMEMSデバイスウェハに適しています。 |
Model 2000は投光照明露光またはエッジビーズ露光が可能なフルオートマチックタイプの装置です。 |
UVライトソース
UVライトソース Series30：スタンドアローンタイプ
シリーズ30は様々なアプリケーションを意図した高効率な光源です。このUV光源は様々なランプが搭載されていることにより、多様で適切なビームサイズを選択することができます。
＜OAI社製UVライトソース原理＞
| レンズ径 | 5" | 7" | 10" | 12" | 14" | 16" | - | - | - | - | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 露光ビームサイズ | 径 | 4" | 6" | 8" | 10" | 12" | 14" | - | - | - | - |
| 角 | - | 4" | 6" | 8" | 10" | 12" | 14" | 16" | 18" | 20" | |
| ユニフォーミティ（径内） | ±5% | ±5% | ±5% | ±5% | ±5% | ±5% | ±6% | ±6% | ±6% | ±6% | |
| コリメーション（1/2角） | 2.6 | 2.3 | 2 | 1.6 | 1.4 | 1.2 | 1 | 0.8 | 0.6 | 0.4 | |
| スペクトラム | Near UV | 365nm、405nm、436nm | |||||||||
| Mid UV | 310nm | ||||||||||
| Deep UV | 210nm、260nm | ||||||||||
| ランプ電力 | 200W、 350W、 500W、 1000W、2000W 3.5KW、5KW、は特注にて対応可能 |
||||||||||
- 幅広い波長の製品ラインナップ（Near UV、Mid UV、Deep UV）
- 大面積対応（最大20"× 20"）
- 他社マスクアライナーへの搭載も可能です。（詳細はお問合せ下さい）
| 大型基板向けライトソース | |
|---|---|
大型基板用ライトソースグランド（LSG）シリーズは、平行ミラー技術を最適化するシステムです。LSGシリーズはビームサイズは20"×20"まで、ランプワット数も1kW～12kWまで上げることができます。 |
UVメーター＆プローブ
OAIは正確な信頼性のある、校正機能を持ったデジタル測定システムを提供します。OAI製メーターはフォトリソグラフィー、UV安定装置、接着材やその他の材料向けのUV矯正システムのモニタリング用にデザインされています。
MEMSトータルソリューション
MEMS試作
MEMS量産
マイクロ流体チップ
MEMS開発ツール
TEL：044-852-7575（電子部）
FAX：044-854-1979（代）
株式会社 協同インターナショナル
〒216-0033
神奈川県川崎市宮前区宮崎2-10-9
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